简述组件层压工艺过程的四个步骤?

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①辈孓宠你‰
①辈孓宠你‰ 2023-03-17 08:52
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  • 2023-03-17 08:58

    1. wafer 表面处理;2. 旋涂光刻胶(包括抗反射层)3. 前烘;4. 曝光;5. 后烘;6. 显影,有的需要在显影前进行坚膜;7. 刻蚀

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